高溫高壓光催化反應釜

簡要描述：高溫高壓光催化反應釜是用于頂照光源照射的高壓光化學反應器，采用磁力攪拌，觸屏控制系統(tǒng)，是進行光化學催化、合成、降解等反應而設計的新型光化學反應釜。

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高溫高壓光催化反應釜是用于頂照光源照射的高壓光化學反應器，采用磁力攪拌，觸屏控制系統(tǒng)，是進行光化學催化、合成、降解等反應而設計的新型光化學反應釜。

　　高溫高壓光催化反應釜用于新能源，環(huán)境、新藥研發(fā)領域的高溫高壓光化學的中試及放大生產，通過對高壓反應釜在光催化中的應用，經過技術研發(fā)，技術性能與安全的反應設備，受到很多高壓光催化科研人員的選擇。

　　釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥、取樣閥，溫度測管，耐高溫高壓光源插入口等，在保證您的生產安全前提下更方便您的操作，采用頂照式光源設計，物料與光源充分反應，物料均勻吸收光子能量。

　　光化學反應釜主要特點及應用：

　　1.耐磨、高硬度、耐腐蝕、磨擦系數小，是儀表機械軸承的理想材料；

　　2.透光性能優(yōu)良，因此也是高級儀器選的材料；

　　3.高強度、耐腐蝕、高熱導率、高熱導率、高透光特性及寬透光波段（從近紫外到7um中紅外波段），是理想的窗口材料和光學元件材料；

　　4.電絕緣性能優(yōu)良，六方對稱結構，化學性能穩(wěn)定，是好的半導體、超導襯底材料。

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